三氟化氮（NF3）是有毒、無色、無嗅、不可燃的氧化性壓縮氣體。NF3具有在室溫條件下相對容易使用和可以用作氟化劑的優(yōu)點。由于這些因素，它在許多應用中獲得了廣泛的認可。由于它的優(yōu)點，如高蝕刻率、高選擇性、無碳蝕刻和最小限度的殘留污染，電子工業(yè)把它用在等離子和熱清潔應用中。由于它相對于氟氣更容易使用，NF3在高能化學激光器中用作氟源。在特殊化學品的生產中NF3還用作媒介。